Tetraethylorthosilikat grundlegende Informationen
Produktname: Tetraethylorthosilikat
Synonyms: Tetraethyl Orthosilicate 〔Ethyl Silicate〕;Ethyl Polysilicate 28;Tetraethoxysilane, 99.999+% (metals basis);Tetraethoxysilane, 99.9%;tetraethyl silicate ethyl silicate;Orthosilicic acid tetraethyl ester, Tetraethoxysilane;etylukrzemian(polish);Silane, tetraethoxy-
CAS: 78-10-4
MF: C8H20O4SI
MW: 208.33
Eincs: 201-083-8
Verwendet 1. Tetraethylorthosilikat wird als Isoliermaterial in der elektronischen Industrie verwendet, auch zur optischen Glasverarbeitung und als Koagulanzien verwendet.
2. Für Präzisionsguss als Sandbindemittel. Durch Ethylsilikatdampf behandelte Metalloberfläche kann eine Antikorrosion und wasserdicht sein. Ethylsilikat kann verwendet werden, um auf der Metalloberfläche des Siliziums zu bluten. Die Verarbeitung optisches Glas kann seine Lichtübertragung verbessern. Feine Silica -Pulver, das durch vollständige Hydrolyse erzeugt wird, kann zur Herstellung des Phosphors verwendet werden. Ethylsilikat ist Rohstoff für Silikonöl. Ethylsilikat kann auch verwendet werden, um hitzebeständige, chemisch resistente Beschichtungen herzustellen. In Japan werden 90% des Ethylsilikats als Basismaterial der Korrosionsbeschichtung (Zink-reiche Farbe) verwendet.
3. Tetraethylorthosilikat wird hauptsächlich in chemischresistenten Beschichtungen und hitzebeständigen Beschichtungen verwendet, die als Silikonlösungsmittel und präzisionsgemachtes Bindemittel verwendet werden. Feines Silica -Pulver, das nach vollständiger Hydrolyse erzeugt wird und zur Herstellung von Phosphor verwendet wird, auch als chemisches Reagenz verwendet.
4. Tetraethoxysilan wird hauptsächlich in optischem Glas, chemisch resistenten Beschichtungen und hitzebeständigen Beschichtungen und Klebstoffen verwendet, Modifikation für die Antikorrosionsbeschichtung, die als Vernetzungsmittel verwendet wird .
5. Als Isoliermaterialien in der elektronischen Industrie, Beschichtungen, optischen Glasbehandlungsmitteln, Koagulanzien, die für die organische Synthese verwendet werden, werden als Lösungsmittel zur Herstellung von Organosilicon verwendet.
Tetraethylorthosilikatchemische Eigenschaften
Melting point
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-77 °C
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Boiling point
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168 °C(lit.)
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density
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0.933 g/mL at 20 °C(lit.)
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vapor density
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7.2 (vs air)
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vapor pressure
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<1 mm Hg ( 20 °C)
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mf
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